抗日戰爭勝利浙江受降紀念館LOGO設計征集大賽結果揭曉
準確表達抗日戰爭勝利浙江受降紀念館的特殊文化歷史內涵,進(jìn)一步加強紀念館對外品牌宣傳和展示,更好地發(fā)揮紀念館的社會(huì )教育職能,傳承紅色基因,助力黨史教育。今年4月,富陽(yáng)區博物館面向社會(huì )征集受降抗戰紀念館(LOGO)標志設計方案,得到了來(lái)自全國各地的創(chuàng )作者和團隊的支持和參與,共收到作品百余件。
經(jīng)過(guò)專(zhuān)家評審和網(wǎng)絡(luò )投票,評選出優(yōu)勝獎1名,入圍獎5名。專(zhuān)家評審在原獲勝獎Logo設計的基礎上,結合文化性、創(chuàng )新性、審美性、實(shí)用性四個(gè)標準和設計師反復溝通、多次修改,確定最終版。
優(yōu)勝獎
作者:杭州諦森廣告有限公司
● 標志由受降抗戰紀念館館名、字母“V”、“書(shū)籍”、“警鐘”等元素構成,意在警示后人要牢記那段苦難而崢嶸的歲月,通過(guò)閱讀,學(xué)習才能銘記歷史,砥礪奮進(jìn)。
入圍獎(5名)
作者:孫海江
作者:白世剛
作者:王安
作者:陳科
作者:杭州富陽(yáng)天銘文化創(chuàng )意有限公司
領(lǐng)獎須知
1.工作人員將與獲獎?wù)呗?lián)系領(lǐng)獎相關(guān)事宜,如有不明事項請聯(lián)系富陽(yáng)博物館陳列宣教科。
2.此次獲獎作品的所有權、修改權、組合權、發(fā)布權、傳播權等均歸富陽(yáng)區博物館所有,獲獎個(gè)人不得自行使用或轉讓第三方。未入圍的作品可自行處理。
衷心感謝所有參與
受降抗戰紀念館logo設計的朋友們!
受降抗戰紀念館滿(mǎn)懷期待的未來(lái)
同樣期待你們的參與!
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